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高溫紅外漫反射裝置（HT-DRIFTS-500）

氣固催化原位設備

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一、產品簡介 高溫紅外漫反射裝置（HT-DRIFTS-500）是該原位裝置適配公司生產的漫反射光路系統，十分適合于高溫條件下多相催化、氣固催化、催化體系紅外在線測試；該裝置主要包含外殼、上蓋、樣品臺、樣品架、隔熱層、加熱體等多個部件及相關配件。該裝置各個部件合理選型，窗口及上蓋密封采用擠壓o型圈密封；溫度采用PT100測量，位于樣品下方保證溫度測量的準確性。裝置最終采集的溫度通過專門的應用軟件顯示，可顯示溫度曲線和保存數據。
高溫高壓紅外漫反射裝置（HTHP-DRIFTS-500）

氣固催化原位設備

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一、產品簡介 <article data-clipboard-cangjie="["root",{},["p",{"ind":{"firstLine":32,"firstLineChars":200},"rPr":{"color":"#000000","fonts":{"ascii":"楷體","cs":"楷體","eastAsia":"楷體","hAnsi":"楷體"},"sz":12,"szUnit":"pt"}},["span",{"data-type":"text"},["span",{"fonts":{"ascii":"Times New Roman","eastAsia":"楷體","hAnsi":"Times New Roman","hint":"eastAsia"},"sz":12,"szUnit":"pt","data-type":"leaf"},"高溫高壓紅外漫反射"],["span",{"fonts":{"ascii":"楷體","cs":"楷體","eastAsia":"楷體","hAnsi":"楷體","hint":"eastAsia"},"sz":12,"szUnit":"pt","data-type":"leaf"},"裝置是"],["span",{"color":"#000000","fonts":{"ascii":"楷體","cs":"楷體","eastAsia":"楷體","hAnsi":"楷體","hint":"eastAsia"},"sz":12,"szUnit":"pt","data-type":"leaf"},"該原位裝置適配公司生產的漫反射光路系統，十分適合于高溫條件下多相催化、氣固催化、催化體系紅外在線測試；"]]],["p",{"ind":{"firstLine":32,"firstLineChars":200},"rPr":{"fonts":{"ascii":"楷體","cs":"楷體","eastAsia":"楷體","hAnsi":"楷體"},"sz":12,"szUnit":"pt"}},["span",{"data-type":"text"},["span",{"fonts":{"ascii":"楷體","cs":"楷體","eastAsia":"楷體","hAnsi":"楷體","hint":"eastAsia"},"sz":12,"szUnit":"pt","data-type":"leaf"},"該裝置主要包含外殼、上蓋、樣品臺、樣品架、隔熱層、加熱體等多個部件及相關配件。"]]],["p",{"ind":{"firstLine":32,"firstLineChars":200},"rPr":{"color":"#000000","fonts":{"ascii":"楷體","cs":"楷體","eastAsia":"楷體","hAnsi":"楷體"},"sz":12,"szUnit":"pt"}},["span",{"data-type":"text"},["span",{"fonts":{"ascii":"楷體","cs":"楷體","eastAsia":"楷體","hAnsi":"楷體","hint":"eastAsia"},"sz":12,"szUnit":"pt","data-type":"leaf"},"該裝置各個部件合理選型，窗口及上蓋密封采用擠壓o型圈密封；溫度采用PT100測量，位于樣品下方保證溫度測量的準確性。裝置最終采集的溫度通過專門的應用軟件顯示，可顯示溫度曲線和保存數據。"]]]]">高溫高壓紅外漫反射裝置（HTHP-DRIFTS-500）是該原位裝置適配公司生產的漫反射光路系統，十分適合于高溫條件下多相催化、氣固催化、催化體系紅外在線測試；該裝置主要包含外殼、上蓋、樣品臺、樣品架、隔熱層、加熱體等多個部件及相關配件。該裝置各個部件合理選型，窗口及上蓋密封采用擠壓o型圈密封；溫度采用PT100測量，位于樣品下方保證溫度測量的準確性。裝置最終采集的溫度通過專門的應用軟件顯示，可顯示溫度曲線和保存數據。</article>
高溫臺式加熱XRD裝置（TSS-XRD-500）

氣固催化原位設備

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?一、產品簡介 高溫臺式加熱XRD裝置（TSS-XRD-500）是一款專門為高溫條件下探測樣品物相結構變化而設計的原位樣品臺，該裝置主要包含有主體反應腔（高溫爐體）、水冷系統、溫控系統、樣品臺等多個部件及相關配件。采用臺式加熱方式，PT100 熱電阻置于樣品正下方，最高使用溫度 500℃，常壓。該原位裝置十分適用于研究不同材料在高溫變溫情況下的物相結構研究，是材料科學領域、能源化學領域等眾多研究領域的有力輔助手段之一。
高溫高壓 XRD 反應裝置（TSSHP-XRD-500）

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一、產品簡介 原位高溫高壓 XRD 反應裝置（TSSHP-XRD-500）是一款專門為高溫條件下探測樣品物相結構變化而設計的原位樣品臺，該裝置主要包含有主體反應腔（高溫爐體）、水冷系統、溫控系統、樣品臺等多個部件及相關配件。采用臺式加熱方式，PT100 熱電阻置于樣品正下方，最高使用溫度 500℃，最高使用壓力 2.5MPa。該原位裝置十分適用于研究不同材料在高溫變溫情況下的物相結構研究，是材料科學領域、能源化學領域等眾多研究領域的有力輔助手段之一。
高溫紅外/XAS 透射裝置（HT-FTIR-600K）

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一、產品簡介 高溫紅外/XAS 透射原位反應裝置（HT-FTIR-600K）是一款適用于高溫環境下探測樣品紅外光譜和 XAS 光譜的原位測試裝置。該裝置適用于絕大多數同步輻射光源的 X 射線吸收譜線站（XAFS）。該裝置采用環境場加熱方式對中心樣品進行加熱，樣品加熱溫度更加均勻、準確，常用使用溫度范圍為室溫到 600K。加熱爐體和樣品臺采用分離設計，樣品臺可隨時取出，方便實驗操作人員的操作。此外樣品臺做了獨特的氣路設計，能夠保證樣品的氣體表面處理，窗口采用兼具紅外和 X 射線透射的金剛石膜，保證了一套裝置的多功能光譜聯用功能。
高溫紅外10CM光程氣體池（HT-FTIR-G200）

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一、產品簡介 原位高溫紅外10CM光程氣體池（HT-FTIR-G200）是一款具有特定光程的氣體紅外分析的原位檢測裝置。該原位池的光程固定為10厘米，十分適合在室溫，低壓，靜態或流動條件下進行常規氣體和蒸氣的光譜分析。該原位池采用316不銹鋼作為池體主體材料，其內部結構根據紅外光譜儀光束的幾何形狀來設計，能夠保證內部體積最小化，并使光束與樣品的相互作用最大化。最高使用溫度200℃，能夠滿足大部分的氣體和蒸汽測試需求。
高溫氣固紅外透射裝置(HT-FTIR-1000)

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一、產品簡介 原位高溫氣固紅外透射裝置(HT-FTIR-1000)是一款適用于多相反應體系、吸脫附體系、表面反應體系等多種不同體系的紅外在線測試的原位反應裝置。該原位裝置采用環境場加熱方式進行加熱，樣品溫度均勻。反應池體內置石英管，可提供一定的化學惰性和耐腐蝕性，避免金屬材質在高溫條件下的催化副反應。該裝置在 HT-FTIR-500的基礎上加入了更高的操作溫度，最高使用溫度可達1000°C；該原位裝置廣泛應用于化學、材料及相關領域，特別適合于高溫氣固催化反應、吸脫附反應動力學及表面原位分析等研究。
高溫氣固紅外透射裝置(HT-FTIR-500)

氣固催化原位設備

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一、產品簡介 原位高溫氣固紅外透射裝置(HT-FTIR-500)是一款適用于高溫條件下的固體、液體-糊狀涂覆膜或氣體樣品測試的原位裝置。該裝置通過加熱體加熱的方式最高可實現500℃的操作溫度，常用溫度范圍：RT-500℃，溫度控制精度為±1℃。配備有2個光路窗口，適用于常規紅外透射測試。同時，配備的氣體控制閥可實現腔體內部低真空的氣體條件，壓力調節范圍：真空-常壓。適用于不同研究領域的高溫氣固透射原位測試。
高溫衍射裝置（HT-XRD-500）

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一、產品簡介 原位高溫衍射反應裝置（HT-XRD-500）是一款專門為高溫條件下探測樣品物相結構變化而設計的原位樣品臺，該裝置主要包含有主體反應腔（高溫爐體）、水冷系統、溫控系統、樣品臺等多個部件及相關配件。采用環境場加熱方式，確保樣品處于恒溫點，最高使用溫度500℃。該原位裝置十分適用于研究不同材料在高溫變溫情況下的物相結構研究，是材料科學領域、能源化學領域等眾多研究領域的有力輔助手段之一。
高溫衍射裝置（HT-XRD-1000）

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一、產品簡介 原位高溫衍射反應裝置（HT-XRD-1000）是一款專門為高溫條件下探測樣品物相結構變化而設計的原位樣品臺，該裝置主要包含有主體反應腔（高溫爐體）、水冷系統、溫控系統、樣品臺等多個部件及相關配件。采用環境場加熱方式，確保樣品處于恒溫點，最高使用溫度1000℃，常用使用溫度范圍：RT-900℃。該原位裝置十分適用于研究不同材料在高溫變溫情況下的物相結構研究，是材料科學領域、能源化學領域等眾多研究領域的有力輔助手段之一。
高溫CT反應裝置（CT-700）

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一、產品簡介 高溫CT反應裝置（CT-700）是一款專門為研究高溫環境下探測樣品CT成像的原位測試裝置。該裝置適用于絕大多數同步輻射光源的 X 射線 CT 線站（X-CT）。該裝置采用環境場加熱方式對中心樣品進行加熱，樣品加熱溫度更加均勻、準確，常用使用溫度范圍為室溫到 700℃。本設備系統主要由加熱爐體、樣品桿、手動對光位移臺、樣品升降臺、冷卻循環系統和溫度控制系統（帶程序控制）等主體部分組成。加熱爐體為雙爐體模式，樣品中間位置留有 360°光路口，光窗采用 Kapton 高分子膜（無耐壓能力）。整個反應腔室外殼體均布設有水冷管路，因此，外殼體以及各類窗口的冷卻均得到了有效保護。其中，在進行高溫實驗過程中（ 700℃條件），外殼體本身的操作溫度不高于 60℃，窗口最高溫度不高于 200℃。溫度控制系統負責給反應腔室提供升溫控制程度以及監測反應腔室內部樣品處的實時溫度變化。通過計算機匹配公司提供的程序控制軟件 HTMS-SOFT1000 可實現反應腔室溫度的遠程監測功能，這一遠程監測功能的拓展有利于各大同步輻射光源線站的實際使用，即反應腔室和控制器均可以放置于光束線及相應的 Hutch 內，而操作人員可以通過一根光纜實現在 Hutch 外操作原位池的溫度控制和監測功能。
高溫氣固催化TXAS裝置（HTC-TXAS）

氣固催化原位設備

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一、產品簡介 高溫氣固催化原位TXAS裝置（HTC-TXAS）是一款專門為研究高溫氣固相催化反應過程而設計的原位測試裝置。該裝置采用加熱爐方式對催化劑進行加熱，樣品加熱溫度更加均勻、準確。該原位裝置最高度可設置成1000℃。該裝置配備進出氣孔，能夠對裝置整體進行氣氛保護，同時受益于氣路設計，能夠保證氣體始終有效通過催化劑。因采用的透射模式進行數據采集，裝置兩側均設置了X射線窗口（此處窗口可多種選擇）。
高溫高壓氣固催化裝置（TC-SOFCXAS-800）

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一、產品簡介 高溫高壓氣固多用途催化反應裝置（TC-SOFCXAS-800）是一款專門為研究高溫氣固相催化反應過程而設計的原位測試裝置。 該裝置適用于絕大多數同步輻射光源的 X 射線吸收譜線站（XAS），并有效兼容了透射和熒光兩種采集模式。 該裝置采用環境場加熱方式對中心催化劑進行加熱，樣品加熱溫度更加均勻、準確，常用使用溫度范圍為室溫到 800℃。該溫度使用范圍均適用于真空和其他氧化還原性氣氛。該裝置配備進出氣孔，能夠對裝置整體進行氣氛保護，同時受益于氣路設計，能夠保證氣體始終有效通過催化劑。更高和更均勻的溫度體系讓用戶能夠在更多的應用場景中選擇對自己最為合適的反應參數來進行原位觀測，是這一原位裝置最大的優勢所在。 本設備系統主要由主體腔室（反應腔）、冷卻循環系統、氣路系統和溫度控制系統（帶程序控制）四個主體部分組成。反應腔室總共設置有四個光窗，其中 X 射線透射光路方向兩個，熒光出射方向一個，此三個窗口均為 X 射線入射出射窗，材質可選擇為 Kapton 高分子膜（無耐壓能力）和高純鈹窗（耐壓 3bar）。為了方便用戶對內部催化劑施加光照或方便用戶觀察內部催化劑的變化情況，在入光口 45°角位置增設有一個配備藍寶石窗口的觀察窗。這一設計一方面增加了該設備的多用途功能，為潛在的光熱催化反應用戶提供了可選項，另一方面，該觀察窗口的設立也為常規用戶實時觀察催化劑在高溫條件下的變化情況提供了方便。整個反應腔室外殼體均布設有水冷管路，因此，外殼體以及各類窗口的冷卻均得到了有效保護。其中，在進行高溫實驗過程中（800℃條件），外殼體本身的操作溫度不高于 60℃，各類窗口最高溫度不高于 200℃。溫度控制系統負責給反應腔室提供升溫控制程度以及監測反應腔室內部樣品處的實時溫度變化。通過計算機匹配公司提供的程序控制軟件 HTMS-SOFT800 可實現反應腔室溫度的遠程監測功能，這一遠程監測功能的拓展有利于各大同步輻射光源線站的實際使用，即反應腔室和控制器均可以放置于光束線及相應的 Hutch 內，而操作人員可以通過一根光纜實現在 Hutch 外操作原位池的溫度控制和監測功能。
高溫高壓氣固催化裝置（HTC-MFXAS-800）

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一、產品簡介 高溫高壓氣固多用途催化反應裝置（HTC-MFXAS-800）是一款專門為研究高溫氣固相催化反應過程而設計的原位測試裝置。該裝置適用于絕大多數同步輻射光源的 X 射線吸收譜線站（XAS），并有效兼容了透射和熒光兩種采集模式。該裝置采用環境場加熱方式對中心催化劑進行加熱，樣品加熱溫度更加均勻、準確，常用使用溫度范圍為室溫到 800℃。該溫度使用范圍均適用于真空和其他氧化還原性氣氛。該裝置配備進出氣孔，能夠對裝置整體進行氣氛保護，同時受益于氣路設計，能夠保證氣體始終有效通過催化劑。更高和更均勻的溫度體系讓用戶能夠在更多的應用場景中選擇對自己最為合適的反應參數來進行原位觀測，是這一原位裝置最大的優勢所在。本設備系統主要由主體腔室（反應腔）、冷卻循環系統、氣路系統和溫度控制系統（帶程序控制）四個主體部分組成。反應腔室總共設置有四個光窗，其中 X 射線透射光路方向兩個，熒光出射方向一個，此三個窗口均為 X 射線入射出射窗，材質可選擇為 Kapton 高分子膜（無耐壓能力）和高純鈹窗（耐壓 10bar）。為了方便用戶對內部催化劑施加光照或方便用戶觀察內部催化劑的變化情況，在入光口 45°角位置增設有一個配備藍寶石窗口的觀察窗。這一設計一方面增加了該設備的多用途功能，為潛在的光熱催化反應用戶提供了可選項，另一方面，該觀察窗口的設立也為常規用戶實時觀察催化劑在高溫條件下的變化情況提供了方便。整個反應腔室外殼體均布設有水冷管路，因此，外殼體以及各類窗口的冷卻均得到了有效保護。其中，在進行高溫實驗過程中（800℃條件），外殼體本身的操作溫度不高于 60℃，各類窗口最高溫度不高于 200℃。溫度控制系統負責給反應腔室提供升溫控制程度以及監測反應腔室內部樣品處的實時溫度變化。通過計算機匹配公司提供的程序控制軟件 HTMS-SOFT800 可實現反應腔室溫度的遠程監測功能，這一遠程監測功能的拓展有利于各大同步輻射光源線站的實際使用，即反應腔室和控制器均可以放置于光束線及相應的 Hutch 內，而操作人員可以通過一根光纜實現在 Hutch 外操作原位池的溫度控制和監測功能。氣路系統則是在集成多個反應氣閥和安全閥的基礎上，實現對反應腔體的供氣處理及氣壓監測功能。氣路控制箱包含有一套壓力數顯裝置和一套安全卸壓裝置，其中數顯壓力表主要起到對氣路系統內部氣壓的監控與施壓作用，卸壓裝置則是防止整個系統的壓力超出設備的安全設計值，一旦系統壓力超過安全閾值，該卸壓裝置就將主動卸壓，保證整個系統的壓力值一直處于安全閾值以內。
高溫拉曼

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一、產品簡介 原位高溫拉曼反應裝置（HT-Raman-1000）是一款專門為高溫條件下探測樣品物相結構變化二設計的原位樣品臺，該裝置主要包含有主體反應腔（高溫爐體）、水冷系統、溫控系統、樣品臺等多個部件及相關配件。采用環境場加熱方式，確保樣品處于恒溫點，最高使用溫度 1000℃。該原位裝置十分適用于研究不同材料在高溫變溫情況下的物相結構，是材料科學領域、能源化學領域等眾多研究領域的有力輔助手段之一。
高溫顯微紅外原位池

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高溫紅外透射原位池

氣固催化原位設備

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高溫拉曼四探針原位裝置

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高溫拉曼原位池-500（HT-Raman-500）

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一、產品簡介 原位高溫拉曼反應裝置（HT-Raman-500）是一款專門為高溫條件下探測樣品物相結構變化二設計的原位樣品臺，該裝置主要包含有主體反應腔（高溫爐體）、水冷系統、溫控系統、樣品臺等多個部件及相關配件。采用環境場加熱方式，確保樣品處于恒溫點，最高使用溫度500℃。該原位裝置十分適用于研究不同材料在高溫變溫情況下的物相結構，是材料科學領域、能源化學領域等眾多研究領域的有力輔助手段之一。
高溫臺式加熱XRD裝置（TSS-XRD-1000）

氣固催化原位設備

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一、產品簡介 高溫臺式加熱XRD裝置（TSS-XRD-1000）是一款專門為高溫條件下探測樣品物相結構變化而設計的原位樣品臺，該裝置主要包含有主體反應腔（高溫爐體）、水冷系統、溫控系統、樣品臺等多個部件及相關配件。采用臺式加熱方式，S 型熱電偶置于樣品正下方，最高使用溫度 1000℃，常壓。該原位裝置十分適用于研究不同材料在高溫變溫情況下的物相結構研究，是材料科學領域、能源化學領域等眾多研究領域的有力輔助手段之一。