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原位高低溫拉曼反應裝置-N（HLT-Raman-N）

高低溫原位測試設備

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一、產品簡介 高低溫拉曼原位池裝置（HLT-Raman-N）是一款專門為高低溫條件下探測樣品物相結構變化而設計的原位樣品臺，該裝置主要包含有主體反應腔、制冷系統、加熱系統、溫控系統、樣品臺等多個部件及相關配件。采用液氮制冷對樣品進行制冷，通過熱傳導的加熱方式，確保樣品處于恒溫點，溫度范圍為-180-300℃。該原位裝置十分適用于不同材料在高低溫情況下的物相結構研究，是材料科學領域、能源化學領域等眾多研究領域的有力輔助手段之一。
原位高低溫漫反射裝置（HLT-DR-N）

高低溫原位測試設備

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一、產品簡介：原位高低溫漫反射裝置（HLT-DR-N）是一款專門為低溫條件下利用紅外漫反射模式來探測樣品結構變化而設計的原位裝置。該原位裝置匹配中研環科漫反射光路或HARRICK漫反射光路，可實現光催化在低溫下的反應監測。該裝置主要包含有主體原位池、溫控系統等多個部件及相關配件。采用液氮制冷對低溫樣品進行制冷，通過熱傳導的制冷方式，確保樣品處于恒溫點，溫度范圍為-170℃-300℃該原位裝置十分適用于不同材料在低溫下的物相結構研究，是材料科學領域、能源化學領域等眾多研究領域的有力輔助手段之一。
原位高低溫XRD反應裝置（HLT-XRD-N）

高低溫原位測試設備

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一、產品簡介：原位高低溫XRD反應裝置（HLT-XRD-N）是一款專門為低溫條件下利用實驗室X射線衍射儀來探測樣品物相結構變化而設計的原位裝置。該原位裝置可匹配商業衍射儀，可實現樣品在低溫下的物相反應監測。該裝置主要包含有主體原位池、溫控系統等多個部件及相關配件。采用液氮制冷對低溫樣品進行制冷，通過熱傳導的制冷方式，確保樣品處于恒溫點，溫度范圍為-180℃-300°該原位裝置十分適用于不同材料在低溫下的物相結構研究，是材料科學領域、能源化學領域等眾多研究領域的有力輔助手段之一。
高低溫XRD低壓測試系統

高低溫原位測試設備

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Raman高低溫（電學）（LT-Raman-Se）

高低溫原位測試設備

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一、產品簡介：原位低溫拉曼反應裝置（LT-Raman-Se）是一款專門為高低溫條件下探測樣品結構變化而設計的原位樣品臺，該裝置主要包含有主體反應腔、制冷系統、加熱系統、冷卻循環系統、溫控系統、樣品臺等多個部件及相關配件。采用半導體制冷片對樣品進行制冷，通過熱傳導的加熱方式，確保樣品處于恒溫點，溫度范圍為-40-100℃。該原位裝置十分適用于不同材料在高低溫情況下的物相結構研究，是材料科學領域、能源化學領域等眾多研究領域的有力輔助手段之一。
原位低溫高壓拉曼反應裝置-NL（LT-Raman-DAC-NL）

高低溫原位測試設備

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一、產品簡介 原位低溫高壓拉曼反應裝置是一款可實時調節反應池體溫度并在高壓下在線觀察樣品拉曼光譜。該原位裝置系統主要包括有高低溫系統、低溫壓機、真空腔體、半導體以及溫度控制系統等多個部分組成。其中溫度調節范圍為：-30℃~100℃，溫度調節精度：±1℃。
高低溫原位Raman反應池（LT-Raman-LN）

高低溫原位測試設備

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一、產品簡介 高低溫原位Raman（LT-Raman-LN）是一款可實時調節反應池體溫度，并在線觀察拉曼光譜的高低溫原位反應池。該原位裝置系統主要包括有高低溫系統，真空腔體，樣品臺，液氮循環系統，溫度控制系統等多個部分組成。 其中溫度調節范圍為：-180°C~100°C，溫度調節精度：±1°C。并匹配四根電學測試所用的同軸電極線，用于各類功能材料在低溫環境中的電學測試。該高低溫原位反應池是材料應用領域內重要的輔助手段之一。

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